介绍
最近在半导体工业中，这两家公司都大直径的晶片，多层布线图案的小型化，如在技术竞争。其中，这是不可缺少的超大规模集成电路技术处理近年来，CMP平坦化的晶片表面已引起人们的注意，实现平坦化的CMP设备已经出现数。
CMP设备是一个设备进行抛光的旋转压板安装垫和用于保持晶片的浆料从喷嘴供给旋转磁头旋转的同时向对方，以抑制颗粒的产生，在CMP后一般是的清洁装置，它是结合。
在这里，试图把重点放在如何监视浆料的流速保持稳定的CMP设备作为元素。
※本文刊登在八月号（股）“测量技术”2000 Nihonkogyoshuppan。
部署到浆料中的流量测量
减少维持稳定的CMP设备作为元素的重要性，而不是使用由管道或管筒的旋转速度的滚子泵的压力控制，监测的浆料流速。此外，叶轮表达几乎说到的CMP装置的流量计。
然而，泵故障，磨损管，其他损害，往往是堵塞的泥浆沉积，结块，沉淀或类似的发生，发展成意想不到的麻烦。
因此，转换器SFC-450的工作和UCUF-04小口径更小直径的超声波流量计UCUF系列半导体清洗设备在化工行的长期记录，我们洗我们专注于CMP浆料流速分钟的化学品以外的其他设备的流量监测和测量尝试申请。
通过超声波流量计检测UCUF-04K零售
证监会-720超声波流量计传感器
特点UCUF-04K/SFC-720
1、移动的部件，也没有保持部，如果没有保持部也没有通道叶轮式，涡街流量计，突起测定单元，移动部件等。
2、清洗结构因为它采用了NewPFA的接液部分的，不产生微粒和金属离子，以及针对化学腐蚀性强。更进一步，因为它的外侧配置的超声波传感器，清洁理想的结构没有密封部。
精度高
3、低流量区域。
为了安放的超声波压电元件传感器在测量管的两端，并测量横截面的平均流速，以匹配的超声波和流动方向的传播轴，除去的流动速度分布的流体的扰动的影响。此外，它可以非常低流量区域的测量精度高，因为它是得到足够的传播时间差，在有足够的长度，在测量管道直径小。 （测量10mL/min时）
精度高，即使在高粘度流体
4、换能器的工作，它有一个线性化电路的2个特征。
它设立了丰富的化学计量，跟踪记录的，可衡量的校正精度高，即使在高粘度液体提升制造商的线性函数。结合与实测数据在Fuirudo，另一个输出线性冒口可定制的用户，可以是关键调整功能。
5、快速响应高速采样，由于该产品已超过100毫秒的计算周期的平均值，获得的数据的25倍采样的4毫秒按照更快的脉动的流量和流速的变化逐步每一个可能的。
符合标准6.EMC
EMC标准：符合EN61326，兼容无铅
测量原理和结构
(1) UCUF-04探测器的结构图
一中所示UCUF-04型检测器的结构图。
在U-形，通过测量管的弯曲90度后，从进气口流动的液体流出，从插座上弯曲90度的进一步的检测器通过。测量超声波的到达时间被平行地配置压电元件传感器进行发送超声波和接收，和B中的甲，传播测量管路的两端处的液体。
如果在测量管道中的液体是静止的，传播时间传感器A，B之间的如下所述。
TA = TB = L / C·······（1）
然而，
声音的传播速度在液体中：C
距离传感器，A，B之间：L
接着，当液体流的流速的V的传播时间，我想下面的公式。
传播时间到达下游传感器B从上游传感器A
TA = L /（C + V）·········（2）
传播时间达到从上游传感器下游传感器B
TB = L /（C-V）········（3）
（2）的流速V（3），
流速V =（TB-TA）/（助教×TB）·L / 2·········（4）
表示出来。这里是明确的声速C的液体。
因此，在管路的测量（截面积）的内径，由于预先确定的，我知道流速由流速V。
本文链接:乐清市卓品仪表有限公司
www.zpyb.com 友情分享 |
